准分子光刻技术作为当前主流的光刻技术,主要包括:特征尺寸为0.1μm的248 nm KrF准分子激光技术;特征尺寸为90 nm的193 nm ArF准分子激光技术;特征尺寸
11月19日,在清华大学FIT楼的多功能厅,林本坚以“把半导体元件缩到光波长四十分之一”为主题,介绍了他倾其一生的光刻技术。当下热门的人工智能芯片、5G
光刻是将掩模版上的图形转移到涂有光致抗蚀剂(或称光刻胶)的硅片上,通过一系列生产步骤将硅片表面薄膜…
光刻技术的技术应用和光刻技术的设计资料以及光刻技术电路图。 光刻技术是包含光刻机、掩模、光刻材料等一系列技术,涉及光、机、电、物理、化学、材料等多个研究
光刻技术课题组系统梳理影响这些指标的因素,分析它们产生的内在机理,找到它们影响整机指标的方式,对这些分析结果进行验证,为进一步提升整机性能提供理论和实验依据。
